Target Titanium GR5 TC4

Target Titanium TC4 adalah sejenis sumber sputtering untuk membentuk berbagai film fungsional pada substrat dengan sputtering magnetron, pelapisan ion multi-busur atau jenis sistem pelapisan lainnya dalam kondisi proses yang sesuai.

Titanium logam dan target sputtering titanium pada dasarnya sama, dan keduanya terdiri dari titanium. Perbedaan di antara mereka adalah bahwa logam titanium lebih seperti bahan mentah, dan kemudian target titanium lebih seperti produk titanium. Titanium dapat digunakan sebagai bahan baku untuk membuat target sputtering titanium dengan beberapa metode, dan banyak digunakan di bidang teknologi tinggi seperti elektronik, industri informasi, dekorasi rumah, dan manufaktur kaca otomotif. Dalam industri ini, target titanium terutama digunakan untuk melapisi sirkuit terpadu, tampilan panel permukaan panel datar dan komponen lainnya, atau sebagai dekorasi dan pelapis kaca.

perkenalan produk

Target sputtering titanium dan katoda busur dengan grade industri biasanya digunakan untuk pelapis dekoratif untuk menyimpan warna emas, kuning, dan kuning keemasan. Dengan kemurnian hingga 99,7 persen, ukuran butir yang seragam, dan kandungan gas yang lebih rendah, pengguna akhir dapat memperoleh kekerasan yang baik, kecerahan tinggi, warna tahan korosi dan oksidasi tanpa perubahan warna dan noda untuk waktu yang sangat lama. Kami telah memasok Titanium Sputtering Target atau Titanium arc cathodes untuk produsen jam tangan, saniter, cermin mobil, dll, yang cocok untuk berbagai mesin sputtering magnetron dan mesin pelapis ion.

· Kemurnian

Karena kemurnian target memiliki dampak besar pada kinerja film, kemurnian adalah salah satu indikator kinerja utama dari target. Kami menyediakan target sputtering titanium dengan kemurnian tinggi (99,9 persen -99,995 persen), dengan pelanggan di lebih dari 15 negara di seluruh dunia.

· Konten pengotor

Kotoran dalam target padat dan oksigen dan uap air di pori-pori adalah sumber polusi utama. Bahan target yang berbeda memiliki persyaratan yang berbeda untuk kandungan pengotor yang berbeda di industri yang berbeda.

· Kepadatan

kami menyediakan target sputtering titanium densitas tinggi, yang lebih cocok untuk produk pelapis vakum Anda.

· Ukuran butir dan distribusinya

kami menyediakan target ukuran butir mal, dan distribusi ketebalan film yang diendapkan oleh sputtering lebih seragam untuk target dengan perbedaan ukuran butir kecil (distribusi seragam).

Pengepakan dan Pengiriman

Sedang mengemas

Untuk pengepakan produk jumlah kecil:

Kertas atau Plastik dan Karton.

Untuk pengepakan produk dalam jumlah besar:

Kertas atau Busa di dalam, kotak kayu atau palet di luar.

Teknologi pemrosesan produk

Spons titanium → Elektroda pemadatan → Melting → Ingot jadi untuk dijual

→ Penempaan → Billet ingot → Pencocokan → Target titanium atau disk Titanium

Pabrik kami

1. Pengalaman manufaktur yang kaya.

2. Kualitas tinggi dengan harga yang kompetitif.

3. Pasar Domestik dan Luar Negeri.

4. Dilengkapi dengan fasilitas yang lengkap.

 5. Kontrol kualitas yang ketat

 6. Supply varietas jenis dan spesifikasi kepada pelanggan kami, kami juga menerimadisesuaikanproduk.

Silakan hubungi kami dengan gambar detail Anda, staf layanan kami yang terlatih

dan insinyur profesional kami akan menawarkan daftar harga kepada Anda sesuai dengan kebutuhan Anda.

Layanan kami

Kami sangat menghargai minat Anda pada perusahaan kami dan berharap bahwa situs web kami akan membantu dan informatif bagi Anda.

Silakan hubungi saya, Jika Anda tertarik dengan produk kami.

Tag populer: gr5 tc4 titanium target, Cina, pemasok, produsen, disesuaikan, penggunaan, daftar harga, untuk dijual, dalam stok, sampel gratis, bahan berpori