φ4.75mm Pengambil Titanium Berpori Sinter Untuk Perangkat Vakum Mikro

Struktur turunan-kemurnian-metalurgi-serbuknya yang tinggi menghasilkan rasio-luas-terhadap-volume permukaan yang luar biasa. Arsitektur ini memaksimalkan situs aktif untuk penyerapan kimia sisa gas aktif, memastikan kecepatan pemompaan hidrogen yang cepat pada suhu kamar dan oksigen, nitrogen, dan karbon monoksida pada aktivasi termal.

Sebagai non-evaporable getter (NEG), ini menghilangkan risiko kontaminasi partikulat atau-film tipis. Karakteristik ini sangat penting untuk melindungi mikro-optik, permukaan semikonduktor, dan pemancar katoda yang sensitif dari endapan yang-menurunkan kinerja, menjamin umur panjang dan keandalan perangkat

Ikatan difusi{0}}keadaan padat yang dicapai melalui sintering vakum menciptakan struktur kesatuan yang kuat. Desain ini tahan terhadap keretakan akibat guncangan dan getaran mekanis, sehingga memastikan tidak ada partikel yang dihasilkan sepanjang siklus hidup operasionalnya, bahkan setelah saturasi penuh dan penggetasan.

Pengambil menawarkan kompatibilitas operasional yang luas. Ini dapat diaktifkan di tempat melalui laser atau pemanasan resistif dan berfungsi secara efektif pada spektrum suhu yang luas, mulai dari suhu sekitar untuk pemompaan hidrogen hingga suhu tinggi untuk pengoksidasi spesies.

Pengambil ini memberikan pemompaan{0}suhu ruangan yang tak tertandingi untuk hidrogen, produk pelepasan gas utama dalam kemasan kedap udara. Matriks berpori difusivitasnya yang tinggi memungkinkan adsorpsi yang cepat dan penyimpanan hidrogen yang aman, mencegah kenaikan tekanan dan mengurangi risiko penggetasan hidrogen pada komponen yang berdekatan.

Tekanan uap material yang sangat rendah dan pelepasan gas minimal setelah aktivasi membuatnya cocok untuk diintegrasikan ke dalam sistem yang menargetkan rezim UHV dan XHV. Hal ini berkontribusi langsung untuk mencapai dan mempertahankan tingkat vakum murni tanpa menjadi sumber kontaminasi itu sendiri.